采矿

我国攻关半导体稀土抛光液

2021-03-21 18:58

本文摘要:记者7月4日从包头市科学技术局了解到,张家口稀土研究院前几天与张家口天骄清美稀土研磨粉有限公司签订了水解e新型半导体研磨液科学研究项目的合作开发协议,标志着我国在化学机械研磨技术研究开发领域迈出了重要步伐。该项目以半导体芯片工艺中氧化硅绝缘层为研磨对象,积极开展水解e基稀土研磨液的研究,主要研究目标是取出符合集成电路芯片研磨拒绝的水解e基研磨液,该研磨液的制造必须突破以下3项技术:研磨生产技术、研磨集中技术和研磨液配方技术。

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记者7月4日从包头市科学技术局了解到,张家口稀土研究院前几天与张家口天骄清美稀土研磨粉有限公司签订了水解e新型半导体研磨液科学研究项目的合作开发协议,标志着我国在化学机械研磨技术研究开发领域迈出了重要步伐。该项目以半导体芯片工艺中氧化硅绝缘层为研磨对象,积极开展水解e基稀土研磨液的研究,主要研究目标是取出符合集成电路芯片研磨拒绝的水解e基研磨液,该研磨液的制造必须突破以下3项技术:研磨生产技术、研磨集中技术和研磨液配方技术。目前,我国集成电路生产中使用的研磨液都是进口的,国内完全没有生产。进口研磨液在国内的售价非常便宜,降低了芯片的生产成本。

该项目白鱼开发的稀土研磨液可以代替一些海外产品,降低市场价格,降低芯片生产成本,提高中国半导体生产行业的竞争力。化学机械研磨是超大型集成电路生产过程中的新技术,近年来,随着超强机械光学元件等新领域的研发,对高纯度和超细稀土二氧化e研磨粉料的拒绝逐渐提高,其使用量也迅速减少。


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